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![イミダゾ[4,5-d]イミダゾール-2,5(1H,3H)-ジオン，テトラヒドロ-1,3,4,6-テトラキス(メトキシメチル)-3a-メチル-6a-プロピル](/uploads/image/20260402/imidazo45-dimidazole-251h3h-dione-tetrahydro-1346-tetrakismethoxymethyl-3a-methyl-6a-phenyl-bulk-supplier.webp "イミダゾ[4,5-d]イミダゾール-2,5(1H,3H)-ジオン，テトラヒドロ-1,3,4,6-テトラキス(メトキシメチル)-3a-メチル-6a-プロピル")
この製品は、半導体向けに設計された超高純度グリコールウリル架橋剤です。主にArFおよびKrFフォトレジストや半導体材料に適用されています。Hynergyは、純度99.5%以上かつ全不純物が500ppb以内の仕様と、純度99.9%以上かつ単一金属不純物が10ppb以内の仕様という、2つのトップクラスのグレードを提供しています。クリーンルーム精製と微量元素分析を活用し、最先端ノードのフォトレジストに対する厳しい要求に対応しています。
仕様1：純度≥99.5%、総金属不純物≤500ppb
仕様2：純度≥99.9%、単一金属不純物≤10ppb
| Name | イミダゾ[4,5-d]イミダゾール-2,5(1H,3H)-ジオン、テトラヒドロ-1,3,4,6-テトラキス(メトキシメチル)-3a-メチル-6a-フェニル- |
| CAS番号 | 721969-01-3 |
| 分子式 | C₁₉H₂₈N₄O₆ |
| 構造式 |  |
| 用途 | 半導体材料、フォトレジスト、ArFおよびKrFフォトレジスト分野に適用されています。 |
| 純度 | グレード1：≥99% |
| グレード2：≥99%、総金属不純物≤50 ppb | |
| 包装仕様 | kg/袋、25 kg/ドラム |
半導体およびフォトレジスト分野において、先端ノードのチップ製造向けArFおよびKrFフォトレジスト配合物に、超高純度架橋剤として専用に使用されます。
Q1：ArF/KrFフォトレジスト向けに、どのような超高純度グレードが提供されていますか？
A：≥99.5%（総不純物≤500ppb）と≥99.9%（単一金属≤10ppb）の2仕様です。
Q2：微量金属の分析には、どの分析装置が使用されますか？
A：全元素微量金属分析には高感度ICP-MSが使用されます。
Q3：NDAに基づいてサンプルを依頼する方法は？
A：NDA締結後、超高純度フォトレジストサンプルは5営業日以内に発送されます。
カスタム合成から商業規模の生産まで、複素環式芳香族化合物の専任パートナーとしてお客様を支援します。