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仕様1:純度≥99.5%、総金属不純物≤500ppb
仕様2:純度≥99.9%、単一金属不純物≤10ppb
| Name | N,N,N′,N′-テトラキス(ブトキシメチル)尿素 |
| CAS番号 | 43539-97-1 |
| 分子式 | C₂₁H₄₄N₂O₅ |
| 構造式 | ![]() |
| 用途 | 半導体材料、フォトレジスト、ArF、KrF |
| 純度 | グレード1:純度≥99.5%、総不純物≤500 ppb グレード2:純度≥99.9%、単一金属不純物≤10 ppb |
| 包装仕様 | 20 kg/ドラム、25 kg/ドラム |
半導体マイクロエレクトロニクスにおいて、超低微量金属残留を特徴とする、先端フォトレジストおよび超微細ArF・KrFリソグラフィー用の独自コア架橋剤として機能します。
Q1:先端フォトレジスト向けの金属不純物はどの程度低いですか?
A:最高グレードの仕様では、単一金属≤10ppb、総不純物≤500ppbを達成しています。
Q2:提供される容器サイズは何ですか?
A:専用の20kgおよび25kg超清浄電子グレードドラムです。
Q3:完全なICP-MS元素分析レポートを添付できますか?
A:電子グレード出荷品には、包括的なICP-MS微量元素レポートが含まれます。
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